クリーンベンチが作業しにくい課題を解決
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記事更新日 2025年07月11日
クリーンベンチは前面シャッターにより手の動きが制限されることや気流の影響、作業スペースの狭さが課題となります。
作業効率や精度を向上させるには、クリーンデバイスの見直しが重要です。このページでは、これらの課題を解決し、快適に作業を行える方法をご紹介します。
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クリーンベンチの前面シャッターは、内部の清浄度を維持するため、閉じた状態で作業する必要がありますが、反面、手元の可動域を狭める要因となります。
特に細かい作業を行う際、指先の自由度が下がって操作しにくいと感じる方も多いのではないでしょうか。
また、扉が曇った場合は視認性が低下し、作業精度にも影響を及ぼします。これらは作業時間の延長や誤操作のリスクにもつながります。
改善策としては、扉が大きく開いても清浄度を維持できるタイプの製品を選ぶか、オープンなクリーン環境を確保できるシステムを検討するなどの方法が挙げられます。
クリーンベンチ内では、フィルターを通した空気が一定方向に流れます。
作業者の手元に風が直接当たるため、軽量な部品が飛ばされるなどのトラブルを招きがちです。
また、顕微鏡観察の作業時には前面シャッター越しに接眼レンズをのぞき込むことができない為、前面シャッターを開けてからレンズをのぞく必要があり、清浄度が低下する可能性があるという欠点がありました。その結果、作業時間の延長や品質低下につながる懸念が存在していました。
そして、クリーンベンチは1台について作業者が1名と限定される製品が多くあります。複数人が同時に作業を行う際には人数分のクリーンベンチを用意しなければならないケースもあり、装置を据え置くために広いスペースを確保する必要もあります。
しかし、囲いのない開放型構造で、ISOクラス1レベルの清浄度を実現しつつ、複数人で同時に作業できるクリーンデバイスがあります。
清浄空間と外部を間仕切るものがないため、顕微鏡の観察や作業時の手技を損なうことなく、自由に作業が行えます。また、移動も容易に行えるため、従来型のクリーンベンチの制約から解放されます。
高精度な作業が求められる現場や、複数人での協働作業を効率よく行いたい現場にも幅広く対応できます。
クリーンベンチの課題を解決できる
次世代クリーンシステム
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スタンドコーチ・テーブルコーチは対向させたフードからフィルターでろ過した直進性の高い一様流の気流をぶつけ合うことで、挟んだ空間を清浄化するクリーンデバイスです。しかも、その清浄度はISOクラス1のスーパークリーンです。
作業中にコンタミナントが発散しても開放状態であるため、素早く清浄エリア外に排出することができるため、「作業中の清浄度」を維持しやすいクリーンデバイスと言えます。
テーブルコーチは幅約700mmの作業エリアをISOクラス１のスーパークリーン空間にするクリーンデバイスです。
前面シャッターがないオープン構造のため、手の動きを妨げず、作業をスムーズに進められます。風速は約0.5m/secであり、中に手を入れても吹いているか吹いていないかわからない程度なので、作業に影響を及ぼしません。
普段使っている机の上に置くだけで、クリーンルームに入らずともISOクラス１の空間を手に入れることができます。コンパクトで持ち運びも容易なため、他部署や別工場と共有できる点も魅力です。
テーブルコーチは、クリーンベンチでよく挙げられる「前面シャッターによる手の動きの制限」や「狭い作業スペース」等の不満点を解消することができます。
さらに、精密部品の検査や半導体の組立など、集中力が求められる場面でも前面シャッターを介さずに作業を行えるため、失敗するリスクを低減できると言えます。
温度や湿度が過度にこもりにくい点も、長時間作業を行う際のストレスを軽減してくれます。こうした多面的な利点が、クリーンベンチでは解決できなかった課題を解決することにつながります。
製品の表面に付着するほこりや微粒子に対して独自の基準を設けることで品質を追求しており、さらなる高品質化を目指して清浄化プロジェクトを立ち上げました。
クリーンルームの拡張や従来方式の導入は作業効率低下や負担増が懸念されるため、より現場目線での改善策を模索しました。
ショールームでKOACHを体験した際、囲いがなくても約30秒で測定値がゼロになる点や、クリーンガンで飛ばした埃が再付着せず排出される仕組みに大きな驚きを覚えました。
導入後は作業性と清浄度を同時に高めることに成功し、クレームゼロが続いています。
作業者からは「腰をかがめずに作業できる」「製品サイズに合わせて高さを調整しやすい」といった声が上がり、品質と効率の向上に貢献できています。
半導体部品の微細化に対応するため、ミクロン単位の動作精度が求められる試料ステージを検査できる三次元測定機の導入が決定しました。
しかし既存クリーンルームには三次元測定機を設置するスペースがなく、拡張にも新設に近い費用がかかることから断念しました。
次に検討されたクリーンブースは、三次元測定機全体を囲いきれず、しかもダウンフローの気流では測定箇所を十分に清浄化できない懸念がありました。
そこで装置そのものを囲わず、必要なエリアだけを効率よく清浄化することが可能であるサイドフロー方式のKOACHを導入しました。
微風速の気流は測定結果に影響を与えることもなく、作業時に発生した微粒子もオープン構造のため直ちに排出できました。これにより、試料の取り扱い負担の軽減にもつながりました。
クリーンルームの増設を行わずに高い清浄度と測定精度を両立し、作業効率の向上に成功しました。
この事例の企業名や写真、より詳しい導入経緯・成果は、KOACHの会員サイトで確認することができます。
半導体製造は、日本の地域経済の活性化に大きく貢献する重要な産業です。しかし近年では、原材料価格の高騰や光熱費の増加、さらに円安の影響により、各企業の努力だけでは乗り越えられない厳しい状況が続いています。
私たちのメディアは、こうした課題に対して有効なソリューションである「KOACH」の魅力や価値を、より多くの方々に届けることを目的としています。KOACHの認知拡大と導入促進を通じて、業界全体の変革と地域経済のさらなる発展に貢献していきます。